Returning Customer
I am a returning customer
Register Account
If you already have an account with us, please login at the login form.
Ваша учетная запись создана!
Поздравляем! Ваш Личный Кабинет был успешно создан.
Теперь Вы можете воспользоваться дополнительными возможностями: просмотр истории заказов, печать счета, изменение своей контактной информации и адресов доставки и многое другое.
Если у Вас есть какие-либо вопросы, напишите нам.
Выход
Вы вышли из Личного Кабинета.
Ваша корзина покупок была сохранена. Она будет восстановлена при следующем входе в Ваш Личный Кабинет.
Эллипсометрия это метод определения показателя преломления и коэффициентов отражения образца при помощи измерения изменения поляризации отраженного поверхностью света. Толщина пленки и оптические константы поглощающего слоя или оксидной пленки на поверхности субстрата могут быть определения с потрясающей чувствительностью.
Традиционная интерференционная спектроскопия использует свет, проходящий через отдельные оптические пути, тогда как эллипсометрия это вариант интерферометрии который использует два колебательных компонента с одного оптического пути, обеспечивая измерение с высокой точностью и чувствительностью.
Разработанная фирмой JASCO оптическая схема с фотоэластичным модулятором обеспечивает стабильность измерений, одновременно позволяя использовать такие дополнительные преимущества, как высокоскоростное измерение и сканирование по диапазону длин волн.
Оптическая система с фотоэластичным модулятором подвергает образец облучению светом прошедшим через высокоскоростную модулирующую система (50 КГц) и измеряет изменение в поляризации одновременно регистрируя исходный (50 КГц) сигнал и вторичную гармонику (100 КГц) с помощью двухканального усилителя. Специальная запатентованная оптическая система прибора обеспечивает высокую стабильность и устраняет возможные изменения из-за колебаний температуры в помещении.
Компания JASCO разработала специальное программное обеспечение для расчета толщины пленки и оптических констант для каждого из слоев многослойного материала, базирующееся на параметрах эллипсометрических измерений (Δ, ψ)λ для данного материала. Модель многослойной пленки с вычислением оптических констант и толщины подбирается с помощью методов минимизации погрешности для измеренных величин.
| Измерительная система | Фотоэластичный модулятор с двойным захватом сигнала |
| Длина волны | лазерный источник с длиной волны 650 нм Ксеноновая лампа с монохроматором для диапазона 350 - 800 нм |
| Спектральная ширина щели | 1 нм |
| Угол падения | В интервале от 45° до 90° (непрерывный интервал) |
| Толщина пленки | 1 - 99,999 Å |
| Время измерения | от 1 мс и более (дополнительно от 20 мкс) |
| Диаметр пучка | Показатель преломления: ±0.01 Толщина пленки: ±1 Å (±0.1 нм) Коэффициент отражения: ±0.01 Величины при времени измерения 100 мс или более и могут меняться в зависимости от состояния поверхности и качества пленки |
| Столик для образца | Стандартный размер образца: от 15 до 150 мм (квадратный или круглый) |
| Оптическая система | Механизм переключения оптического пути Поляризатор (призма Рошона), фотоэластичный модулятор (PEM), оптический сервопривод и канал сравнения (призма глана-тейлора, плоское зеркало, и фотоумножитель) |
| Отделение образца | Стандартный столик обеспечивает работу с различными углами падения и различными размерами образца. |
| Система детектирования | Анализатор (призма глана-тейлора) и фотоумножитель (R928) |